(Physical Vapour Deposition : PVD)

"การเคลือบผิวด้วยไอทางกายภาพ" หรือที่รู้จักกันในชื่อว่า PVD เป็นการสร้างฟิล์มบางเพื่อวัตถุประสงค์ต่างๆ เช่น การเคลือบฟิล์มแข็งเพื่อป้องกันการสึกหรอหรือฟิล์มที่มีคุณสมบัติเฉพาะทางไฟฟ้า เป็นต้น สามารถเลือกวัสดุเคลือบได้หลากหลาย ตั้งแต่ โลหะ โลหะผสม และสารประกอบบางประเภทโดยจุดประสงค์ในการใช้งานจะเป็นตัวกำหนดวัสดุที่จะมาผลิตเป็นพิล์มบาง